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ASML今年将推出透光率超过90%的EUV保护膜,以提高光刻机的效率

5月15日消息,目前,大多数最先进的手机和计算机芯片都使用EUV极紫外光进行蚀刻,但是这种光很难被反射和折射,并且在制造过程中的损耗率非常高。 根据国外媒体TheElec的消息,ASML今年将开始为光刻机提供一种新型的EUV保护膜,其透光率达到90.6%,并将很快开始生产。

ASML今年将推出透光率超过90%的EUV保护膜,以提高光刻机的效率

国外媒体表示,这种保护膜主要用于安装在EUV光路和晶圆制造空间之间,以防止灰尘进入。以前的保护膜的透光率仅为78%,但一件的价格却高达26,000美元(约合人民币167,400元)三星和台积电目前并未使用这种保护膜来提高生产效率,尽管这会增加污染晶片表面的风险。两家铸造厂此前曾表示,在考虑将其应用于生产线之前,他们需要一种透光率大于90%的保护膜。

ASML宣布,该EUV保护膜可承受400W的功率,并将由日本制造商三井化学制造。

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